حققت الصين مؤخرا اختراقات جديدة في عملية تصنيع رقائق “7 نانومتر”، حيث أفادت تقارير أنها طورّت أدوات ومعارف تقنيّة للعديد من قطاعات عملية التصنيع وسط جهود للحد من الاعتماد على بائعي الآلات والمواد الأجانب.
وفي الشهر الماضي، أعلنت شركة إنوسيليكون (Innosilicon) الصينية لحلول الرقائق، عن إنهاء أعمال تسجيل واختبار رقاقة نموذج أولي تعتمد على نظام “FinFET N +1” لشركة تصنيع أشباه الموصلات الدولية (SMIC)، وقد مثّل هذا الإنجاز خطوة جديدة إلى الأمام في تطوير قطاع تصنيع الرقائق المحلية في الصين.
ووسط القيود التجارية الكبرى التي تفرضها الولايات المتحدة، يعتبر الجيل الجديد لنظام رقائق شركة تصنيع أشباه الموصلات الدولية (SMIC) مماثلا لنظام “7 نانومتر” الذي تنتجه شركة تايوان لأشباه الموصلات (TSMC)، وهي أكبر شركة مستقلة في العالم لإنتاج أشباه الموصلات.وبوصفها أكبر مصنّع للرقائق في الصين، ستقدم (SMIC) نظام “N +1، 7 نانومتر” الخاصة بها، مما يشكّل تحسنا كبيرا في عمليات إنتاجها الحالية لرقائق 14 نانومتر.
وبحسب الشركة المصنّعة، تتميّز الرقائق الجديدة بأداء أعلى بحوالي 20%، واستهلاك طاقة أقل بنحو 57%، وانخفاض مساحة منطقية بنسبة 63%، وخفض المنظومة على الرقاقة (SoC) بنسبة 55%.
وقال ليانغ منغ سونغ، الرئيس التنفيذي المشارك لشركة (SMIC) إن نظام “N +1” سيمكّن الشركة من كسر اعتمادها على آلات الطباعة الحجرية الضوئية بالأشعة فوق البنفسجية القصوى التي تنتجها شركة (ASML) الهولندية لصناعة الرقائق الدقيقة التي تخضع لضوابط التصدير الأمريكية كون منتجاتها تحتوي على تكنولوجيا أمريكية.
مضيفا أن الصين تجتهد في الوقت نفسه لتطوير نظام الطباعة الحجرية الضوئية المستقل.
وأعلن معهد سوتشو لتكنولوجيا النانو ومجال البيونية التابع للأكاديمية الصينية للعلوم، والمركز الوطني لعلوم وتكنولوجيا النانو، مؤخرا عن تحقيق اختراق في نوع جديد من تقنية الطباعة الحجرية بالليزر لرقائق 5 نانومتر.
ويرى خبراء أن هذا الإنجاز يمكن أن يضع الأساس للبحث في آلات الطباعة الحجرية المتقدمة الصينية المستقلة.
وكسرت التكنولوجيا الجديدة القيود التقليدية في الكتابة المباشرة بالليزر (LDW) من خلال قدرتها على المعالجة عند مستوى النانو. وإضافة إلى الدقة الفائقة، تُظهر التكنولوجيا كذلك إمكانية الإنتاج الضخم.
ووفقا لنتائج البحث المنشورة في دورية “نانو ليترز” العلمية الشهرية الخاضعة لاستعراض الأقران، فإن تقنية الكتابة المباشرة بالليزر (LDW) الجديدة تعرض كفاءة ممتازة للتحكم الجيد والإنتاج الضخم لـ500 ألف قطب كهربائي نانوي في الساعة، مما يكسر المفاضلة بين الدقة والإنتاجية باستخدام تقنيات التصنيع النانوي.
وخلال أعمال معرض الصين الدولي للاستيراد في نسخته الثالثة المنعقد في بلدية شانغهاي، عرضت شركة (ASML) العالمية الرائدة في تصنيع آلات الطباعة الحجرية الضوئية، آلات طباعة حجرية بالأشعة فوق البنفسجية العميقة، ما أرسل إشارة قوية لقدرتها واستعدادها لتصدير المعدات إلى الصين.
وفي وقت سابق، صرح روغر داسن المدير المالي لشركة (ASML) أن شركته يمكنها تصدير آلات الطباعة الحجرية بالأشعة فوق البنفسجية العميقة إلى الصين دون الحاجة إلى ترخيص أمريكي. وأضاف أنه يمكن لهذه التكنولوجيا إنتاج رقائق وصولا إلى 7 نانومتر.
ومن حيث المواد، أعلنت شركة (ناتا) للمواد الإلكترونية البصرية ومقرها مقاطعة جيانسو شرق الصين، عن بناء أول خط إنتاج بتقنية ليزر فلوريد الأرجون المقاوم للضوء في الصين، والذي يستخدم لنقل أنماط الدوائر الإلكترونية إلى بلورات السيليكون في عملية تصنيع رقائق 7 نانومتر.
وفي السابق، كان من الممكن تطبيق المواد المقاومة للضوء المنتجة في الصين فقط في إنتاج الرقائق بمعايير 436 نانومتر و365 نانومتر.
وبوصفها أكبر سوق لأشباه الموصلات في العالم، تنفق الصين بقوة على الاستثمار في أشباه الموصلات والاستحواذ وتوظيف المواهب لدعم الصناعة لإنتاج رقائق على نحو مماثل لتلك الموجودة في أكبر مسابك العالم.
وتوقع تقرير صادر عن بنك غولدمان ساكس في الثاني من يوليو الماضي أن الصين قد تكون قادرة على إنتاج رقائق 7 نانومتر بحلول عام 2023.
وقال توماس فريدمان، كاتب عمود في صحيفة نيويورك تايمز، خلال منتدى عبر الإنترنت في 11 نوفمبر الجاري، إن الصين تجتهد لبناء سلسلة إمداد متكاملة للرقاقات الدقيقة من البداية إلى النهاية، ولن تعتمد بعد الآن على التقنيات الأمريكية وفقا لما تضمنته أحدث خطة خمسية وطنية.خمسية.
